檢測流程

1、寄樣(與在線工程師溝通確定項目，寄樣)

2、初檢樣品(收到樣品之后，初檢樣品，制定詳細(xì)的實驗方案)

3、報價(根據(jù)客戶檢測需求以及實驗復(fù)雜程度報價)

4、簽訂保密協(xié)議(嚴(yán)格保護(hù)客戶隱私)

5、開始實驗

6、結(jié)束實驗，提供后期服務(wù)

我們的檢測優(yōu)勢

1、高新技術(shù)企業(yè)，檢測資質(zhì)齊全，儀器先進(jìn)，科研團(tuán)隊強(qiáng)大

2、檢測周期更短，實驗方案更齊全，科研團(tuán)隊更強(qiáng)大

3、初檢樣品，初檢期間不收取任何費(fèi)用，制定詳細(xì)的實驗方案

4、檢測報告認(rèn)可，支持掃碼查詢真?zhèn)?/p>

5、有多家實驗室分支，支持客戶上門取樣/寄樣檢測服務(wù)

6、與客戶簽訂保密協(xié)議，嚴(yán)格保護(hù)客戶隱私

檢測標(biāo)準(zhǔn)

BS ISO 10110-4-1997光學(xué)及光學(xué)儀器.光學(xué)元件和系統(tǒng)圖形的制備.第4部分:不完備材料的不均勻性和擦痕

CEI EN 61262-3-1998醫(yī)用電氣設(shè)備.電光X射線圖像增強(qiáng)器的特性.第3部分:亮度分布和亮度不均勻性的測定.第一版

EN PREN 13036-5-2006道路和機(jī)場表面試驗方法,第5部分：縱向不均勻性指數(shù)的測定

DB44/T 1716-2015臺山玉

DIN 50443-1-1988半導(dǎo)體工藝使用材料的檢驗.第1部分:用X射線外形測量法檢測半導(dǎo)體單晶硅中晶體缺陷和不均勻性

DIN 50443-2-1994半導(dǎo)體工藝材料檢驗;用X射線粘撲法證明半導(dǎo)體單晶硅中晶體缺陷和不均勻性.Ⅲ-V-連接半導(dǎo)體

DIN EN 61262-3-1995醫(yī)用電氣設(shè)備.電光學(xué)X射線圖像增強(qiáng)器的特性.第3部分:亮度分布及不均勻性的測定

DIN ISO 10110-4-2000光學(xué)和光學(xué)儀器.光學(xué)元件和系統(tǒng)的圖形制備.第4部分:材料缺陷.不均勻性和劃痕

GB/T 6379.2-2004測量方法與結(jié)果的準(zhǔn)確度(正確度與精密度) 第2部分：確定標(biāo)準(zhǔn)測量方法重復(fù)性與再現(xiàn)性的基本方法

GB/T 17455-2008無損檢測 表面檢測的金相復(fù)型技術(shù)

GB/T 22588-2008閃光法測量熱擴(kuò)散系數(shù)或?qū)嵯禂?shù)

GB/T 23600-2009鎂合金鑄件X射線實時成像檢測方法

GB/T 25944-2010鋁土礦 批中不均勻性的實驗測定

GB/T 25950-2010鋁土礦 成分不均勻性的實驗測定

GB/T 26641-2021無損檢測 磁記憶檢測 總體要求

GB/T 39637-2020金屬和合金的腐蝕 土壤環(huán)境腐蝕性分類

GOST 11612.3-1975光電倍增管 由光陰極引起的陽極光靈敏度不均勻性的測量方法

GOST 16755-1971電子束接收管 熒光屏輝度不均勻性測量方法

GOST 21059.1-1975黑白電視顯象管 熒光屏亮度和輝度不均勻性測量方法

GOST 21059.5-1976黑白電視和彩色電視顯象管 熒光屏發(fā)光色度及其不均勻性測量方法